[ASML KOREA TECH TALK 2024] 수원컨벤션센터 ASML 코리아 테크톡 2024에 다녀오다! 🤩

안녕하세요?

지난 8월 14일 저는 수원컨벤션센터에서 열린 ASML Korea Tech Talk 2024에 다녀왔습니다!

 

먼저 어떤 행사인지, 아래 포스터 먼저 보시죠!

 

ASML은 네덜란드에 본사를 둔 반도체 장비 제조 회사로, 특히 포토 장비 분야에서 세계적인 선두주자입니다!

ASML은 반도체 기판에 미세한 패턴을 인쇄하는 데 필요한 첨단 기술을 개발하고 공급하는 회사인데요, 이번 테크 톡을 통해서도 ASML사의 놀라운 기술을 엿 볼 수있었습니다.

ASML사의 두 기술인 DUV와 EUV는 제게 정말 매력적으로 다가왔습니다.

1. EUV(Extreme Ultraviolet) 기술

• 파장 : EUV는 13.5nm의 극자외선 파장을 사용하여 미세한 반도체 패턴을 형성합니다.
• 고해상도 패턴 형성 : 짧은 파장은 더 정밀한 패턴을 가능하게 하여 5nm 이하의 기술 노드에서 필수적입니다.
• 광원 : EUV 장비는 리튬 이온을 이용한 고출력 광원을 사용하여, 극자외선 빛을 생성합니다. 이 과정에서 매우 높은 에너지를 생성해야 하며, 안정적인 광원 유지가 중요합니다.
• 반사형 광학 시스템 : EUV 장비는 전통적인 렌즈 대신 여러 개의 반사 거울을 사용하여 빛을 조작합니다. 이 시스템은 고해상도를 제공하며, 패턴 전사 과정에서의 왜곡을 최소화합니다.

  

2.  DUV(Deep Ultraviolet) 기술

파장 : DUV는 주로 193nm 파장을 사용하여 패턴을 형성합니다.

광원 : DUV 장비는 ArF(아르곤 불화물) 레이저를 사용하여 빛을 생성합니다.

기술 안정성 : DUV 기술은 오랜 역사를 가지고 있으며, 반도체 제조 공정에서 널리 사용되어 기술적 안정성이 높습니다.

응용 : DUV는 7nm 및 10nm 기술 노드에서 여전히 널리 사용되며, 고성능 컴퓨팅 및 모바일 칩셋 제조에 필수적입니다.

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CD = k1 • λ / NA

이번 교육때 많은 전문가분들께서 강조하신 내용이었는데요, 한번 알아보겠습니다.

 

• CD (Critical Dimension):
  • CD는 반도체 소자에서 중요한 패턴의 최소 너비를 의미합니다. 즉, 회로의 특정 부분에서 요구되는 최소한의 크기를 말합니다. CD는 소자의 성능과 전반적인 작동에 큰 영향을 미칩니다.
• k1:
  • k1은 기술 계수(technology factor)로, 노광 공정의 특성과 장비의 성능을 나타냅니다. k1 값은 일반적으로 0.3에서 0.5 사이의 값을 가지며, 노광 기술의 효율성과 패턴 형성의 정확성을 반영합니다. k1 값이 작을수록 더 미세한 패턴을 형성할 수 있습니다.
• λ (Wavelength):
  • λ는 사용되는 빛의 파장을 의미합니다. 일반적으로 DUV 또는 EUV가 사용됩니다. 파장이 짧을수록 더 높은 해상도를 얻을 수 있으며, 이는 더 미세한 패턴을 형성하는 데 유리합니다.
• NA (Numerical Aperture):
  • NA는 광학 시스템의 수치 개구 수를 나타내며, 렌즈의 집광 능력을 나타냅니다. NA는 다음과 같이 정의됩니다: NA 값이 높을수록 더 많은 빛을 수집할 수 있으며, 이는 해상도를 증가시키는 데 기여한다고 합니다.

결론 : CD값을 줄여 미세한 패턴 형성, 고해상도 패터닝기술을 통해 반도체 소자의 성능을 향상시키는 것!

• 파장(λ)이 짧을수록 CD는 작아집니다. 즉, EUV 기술을 사용하면 더 미세한 패턴을 형성할 수 있다는 것입니다. 
• NA가 높을수록 CD는 작아집니다. 따라서 고성능 렌즈 시스템을 사용하여 더 높은 NA를 달성하는 것이 핵심 포인트 입니다.
• CD가 작아지면 소자의 전력 소비를 줄이고, 속도와 성능을 개선할 수 있습니다.

결국에는 동일한 웨이퍼에서 더 많은 칩을 생산함으로써 더욱더 효율적인 생산을 가능하게 합니다.

단가가 절감되어 가격 경쟁력이 향상되며, 수익성이 증가하고, 환경적 이점 등 여러 면에서 유리하게 합니다.

 

 

 

학과 수업에서 공정기술에 대해 정말 열심히 배웠다고 생각했는데, 외부 교육 및 행사를 다니면 다닐수록 몰랐던 내용도 많고, 더 공부 할 내용이 많다는걸 느낍니다. 이번 교육을 통해 EUV 장비 및 기술에 대해 배웠습니다. 저에게는 정말 매력적인 공정분야로 다가왔고, 이번 교육에 그치는 것이 아니라, 추후 추가 학습을 통해 블로그에 계속해서 포스팅 하도록 하겠습니다.

 

+ 다음번에는 대학교 공정실습 교육을 나갑니다! 교육 잘 받고 후기 남길께요!